在光學光電行業中，各種產品的制造過程都需要大量的純水或超純水進行清洗，如光學元器件、生物識別技術、薄膜光學面板、新型顯示技術、汽車電子、反光材料、半導體材料、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業的FPC/PCB線路板和電路板制造，以及大規模、超大規模集成電路等。隨著集成電路集成度的提高，對水質的要求也相應提高，這進一步對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。

光電行業用超純水設備工藝：

      1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)。

      2、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)。

      3、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)。

      4、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對(≥17MΩ.CM)。

      5、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)。