半導體芯片的精密制造,離不開一項關鍵支撐:超純水。
水中的離子、顆粒、有機物等雜質,可能引發電路短路、氧化層缺陷等問題,是影響芯片良率的重要因素之一。

半導體級超純水因此有著極為嚴格的標準:通常要求電阻率持續達到18.2 MΩ·cm(25℃),總有機碳(TOC)含量需低于1 ppb,并對顆粒物、微生物等指標有著嚴格的控制要求。
實現這一高標準,依賴于一套完整的系統工程。典型工藝通常包括多級預處理、反滲透(RO)、電去離子(EDI)以及后續的精處理單元。通過紫外線、拋光混床及終端過濾等技術的組合,并依托全封閉循環分配系統,可致力于實現水質的持續穩定。


隨著半導體制程的不斷演進,對超純水的純度、系統智能化及可靠性提出了更高要求。恒大興業以穩定高效的超純水處理系統,為半導體制造提供可靠的水質保障與專業服務。
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